设备介绍：

      半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

工艺流程：

设备新工艺一:

原水(设有压力保护)→增压泵→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地区不合选用)→紧密过滤器(或称保安过滤器)→两头水箱→RO前水泵→紧密过滤器(或称保安过滤器)→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→混床→终端紧密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水(水质可以达到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下，25 ℃)工业(又称超纯水机、超纯水设备等)/半导体用超纯去离子水(指除去了呈离子方式杂质后的纯水)

设备新工艺二:

原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地区不合选用)→紧密过滤器(或称保安过滤器)→两头水箱→RO前水泵→紧密过滤器(或称保安过滤器)→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→普通混床→抛光混床→终端紧密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水(水质可以达到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下，25 ℃) 

应用领域:

　　电解电容器生产铝箔及工作件的清洗;

　　电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水;

　　黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;

　　生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液;

　　晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片;

　　集成电路生产中高纯水清洗硅片;

　　半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水;

　　半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;

　　高品质显像管、萤光粉生产;

　　汽车、家电表面抛光处理。