电子芯片清洗用超纯水设备基本说明：
 
     EDI装置是应用在反渗透系统之后，它利用模块两端电极使水中的带电离子移动，并配合离子交换树脂及选择性树脂膜，以加速离子移动去除，进而达到水的纯化，产水电阻率可达到15--18M。 电子芯片清洗用超纯水设备在设备设计上，采用成熟、可靠、、自动化程度高的盘滤+UF+两级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

EDI优点： 
1.出水水质具有的稳定度。 
2.能连续生产出符合用户要求的超纯水。 
3.模块化生产，并可实现全自动控制。 
4.不需酸碱再生，无污水排放。 
5.不会因再生而停机。 
6.无需再生设备和化学药品储运。 
7.设备结构紧凑，占地面积小。 
8.运行成本和维修成本。 
9.运行操作简单，劳动强度。

电子芯片清洗超纯水设备优势： 
1.占地空间小，省略了混床和再生装置； 
2.产水连续稳定，出水质量高，而混床在树脂临近失效时水质会变差； 
3.运行费用，再生只耗电，不用酸碱，节省材料费用； 
4.环保效益显著，增加了操作的安全性。 

功能说明：
1、在线检测并显示超纯水电阻率（MΩcm）；
2、产品小型集成化、模块化、快接式内部设计，方便安装维护，占地面积小，外形美观；
3、选用进口静音泵，系统运行时无震动、无噪音、无电磁辐射，对工作环境无影响；
4、美国高容量树脂深度抛光纯化处理技术，提高离子交换系统的总交换量，延长耗材寿命；
5、数字化液晶水质显示，全自动化制水，停水或水压不够，系统自动断电保护同时视听报警，多重安全保护；
6、动态化指示：电源指示，系统自检指示，泵浦启动指示，RO自动冲洗指示，缺水保护指示，缺水报警指示，纯水备用指示；
7、全自动化无人值守设计：缺水停水时系统自动停机保护，水压恢复正常时系统自动恢复制水状态；纯水备用时系统自动停机，当取用纯水时系统自动恢复制水状态；
8、微电脑智能控制系统，RO膜防垢程序及完善的自动清洗消毒程序； 
 
    可源电子芯片清洗用超纯水设备，电子工业超纯水设备，电子半导体晶片用超纯水设备，电子行业超纯水设备，半导体超纯水设备，制水过程高度自动化，自动进水，自动制水，纯水箱满水自动停机，用水后自动恢复，可实现无人值守的运行，出水水质满足工业清洗行业用水标准。并提供相关设备的工程案例以供参考；欢迎广大新老客户来人来电咨询。