产品功能
快速去除晶圆上之残留光阻，达到晶圆表面洁净，蚀刻率同业
产品特色
处理均匀性佳
离子能量、不损伤基板
没有电极及基板的污染
专利设计之特殊等离子电极
高密度等离子源
等离子效率高、清洁效率高
可控制的离子能量
结合化学反应性及物理撞击性
处理速度快、清洁效率高、可靠度高
操作范围广
可使用多种制程气体
设备稳定高，容易维护
可依客户需求作更改
应用产业
残余光阻去除
PSS 来料清洁制程
联系我时，请说是在找找去看到的，谢谢！
产品功能
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残余光阻去除
PSS 来料清洁制程
