热处理还原气氛炉

　　设备用途：

　　设备主要用于高温精密退火、微晶化陶瓷釉料制备、模具退火、粉末烧结、塑胶粉末实验，纳米材料、金属部件在气氛保护下是退火热处理。广泛用于高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产

　　热处理还原气氛炉

　　KRX1600系列气氛炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速对温控系统降温，气氛炉采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院机构、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

　　热处理还原气氛炉

　　产品规格表

　　备注：我公司可定制各种非标炉，不同炉膛尺寸、不同温度范围内的箱式炉，气氛炉，管式炉，真空炉等。欢迎来电洽谈。

　　热处理还原气氛炉

　　气氛炉 产品描述

　　KRX系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。