仪器简介： 用于各种金属材料中各种化学元素的成分分析。用于原材料检验，冶炼生产过程成分控制，成品元素成分定值及其它特殊应用。多可配置4个光学室，96个分析通道，可分析氮、氢、氧等气体元素。 主要特点： 1.多光学系统配置,多可以设置3个光学系统。 2.所有元素采用一级谱线，灵敏度高，光谱干扰小。 3.3000型数字化光源。精度和检出限明显改善。无须辅助电极，免维护。 4.原厂校准工作曲线，用户无须标样制作曲线，随机提供德国SUS校准标样。 5.SAFT痕量元素分析技术，使分析灵敏度提高一个数量级，可以分析ppm级元素 技术参数： 1.光栅刻线3600条/mm光栅，色散率0.37 nm/mm (1级光谱) 2.波长范围120-800nm 3.光栅焦距750mm 4.多可设置96个分析通道 5.环境适应性强：无需防震、恒温；工作温度范围：10-40℃。 SPECTRO公司推出的SPECTROLAB 新型金属分析仪大大提高了分析性能，增强了灵活性，操作更为简便。根据用户要户要求量身定制，十种标准基体：铁、铝、铜、镍、钴、镁、钛、锡、铅和锌，可以与五种贵金属基体：金、银、铂、钯、钌组合配置。 SPECTROLAB光学系统集合了传统光电管光学系统和CCD全谱光学系统的所有优点。主光学系统内部包括两个独立的光谱模块---光电管光学部分和CCD光学系统，信号通过高性能数据读出系统来处理。 配备现代化的光谱技术和高质量的组成部件，SPECTROLAB适用于各种分析要求，可广泛应用于金属冶炼、金属加工与回收等行业。 UV-PLUS专利光学系统： SPECTROLAB的光学系统集合了两种检测器的优势：光电倍增管和CCD检测器。采用了优化的帕邢——龙格架构，专利光学系统的机械结构异常坚固，同时减少了内部空间体积。内部恒温、恒压确保光学系统不受外界环境变化和影响。UV-PLUS专利技术用于保障远紫外光谱范围的测量。密封光室内部在仪器出厂前充入高纯氩气，远紫外光谱的透过率。光室内的氩气由分子薄膜泵驱动循环净化装置，以内部氩气的高纯度。 UV-PLUS专利光学系统是纯净的，同时具有的稳定性。专利系统在120-180nm波段透光效率，运行成本很。 的光学系统设计与UV-PLUS概念相结合，M11能够同时以高达9pm的光谱分辨率记录120-800nm波段的全部一级光谱图。这一核心技术奠定了SPECTROLAB分析性能的重要基础。 等离子发生器光源： 一代等离子发生器是今坚固的激发光源。超稳定的能量释放在氩气环境中激发样品。全数字信号发生配合全数字能量输出，确保激发区等离子体能量超高分辨率和高保真输出。 在标准分析应用中18秒内可以获得分析数据，提高了样品输出量和过程控制效率。 火花台： M11的火花台直接将激发光导入光学系统。火花台内部体积进一步缩小，优化氩气流 向设计使得氩气消耗更，同时移除残留粉尘。尾气经两级过滤系统排出。火花台工作维护量极。压杆可以左右移动，接驳安全电路。可以快速更换样品。 适用分析大尺寸异型样品。特殊设计的样品夹可用于分析棒材、线材和薄片。小样品专用分析程序提高了 分析精度和性。 分析测试： M11的精致设计使用日常维护和校工作量降到，仪器操作变得非常简单。日常分析按一个键可以完成。配合自动制样设备，可以实现全自动大样品量输出。集成于Spark Analyzer Vision 软件包的硬件诊断系统，实时监控和存档仪器的运行状态。对于仪器参数设置，数据管理，联网传输，打印和材料牌号判定等功能，软件设计了简单直观，易懂的操作界面。SQL数据库格式是数据管理软件的基础。 基于用户的分析需求，仪器可以定制成十种标准基体的任意组合。 CCD光学系统可以自由选择120-800nm范围内的任意谱线用于分析线或参比线。光电管光学系统多可设置108个高性能光电倍增管。每个光电管通道都有是一个微积分器，具有TRS（时间分解光谱技术）分析痕量元素和SSE（单火花评估技术）分析元素相态。事实上，所有分析要求都可以在M11中无折衷地实现。 配备现代光谱技术和高质量的元器件，SPECTROLABM11设计应用于解决各种分析要求。凭借其的性能表现和灵活性，适用于过程控制，质量监控，材料牌号判定，材料研究和开发，以及金属冶炼，加工和回收工业中的各种分析应用。
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