志森光电科技有限公司

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志森光电科技有限公司的专利信息
序号 公布号 发明名称 公布日期 摘要
1 TW358224 化学气相沈积装置 1999.05.11 一种用于制造半导体器件的化学气相沈积装置。该装置包括:一用于在其中反应反应气体之气密室,一安装在该室
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