广州铜谷有限公司

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广州铜谷有限公司的专利信息
序号 公布号 发明名称 公布日期 摘要
1 TW508676 具不同厚度闸氧化层之高功率电晶体制程 2002.11.01 一种可降低开/汲极间电容之高功率半导体元件的制造方法,该方法包含于半导体基材上形成与半导体基材具相同
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