类型 | 名称 | 网址 |
网站 | 杨磁 | http://YANG518.COM |
网站 | 杨磁 | http://www.yangi18.com |
序号 | 注册号 | 商标 | 商标名 | 申请时间 | 商品服务列表 |
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序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
1 | JP5954196(B2) | 円筒形Cu−Ga合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2016.07.20 | A cylindrical Cu-Ga alloy sputtering target having |