我公司是拥有自主知识产权的CVD涂层设备生产制造的企业，从事着CVD技术开发和CVD设备制造。向国内外有尝转让CVD涂层技术和装备系统，并对操作及设备维修保养人员进行培训。该技术可提供CVD涂层有：TiC、TiCN、TiN单层及复合层，在特殊工艺要求时，可以为您提供Al2O3涂层装置。涂层产品包括：数控刀片、 模具、拉丝模、各种耐磨损、耐腐蚀件。

一、设备构成

主要设备产品有：加热炉;反应罐、四氯化钛蒸发器、氯化铝气体发生器、气体混合器、PLC控制系统、气体供给系统、废弃净化系统、真空泵、温控系统、气体流量调节面板、加热炉升降系统。

CVD涂层设备

生产过程

质量流量计：气、液混合部分

CVD工程PLC控制画面

二、主要参数

类 别

指 标

JY180型空间

Ф180x450mm

JY360型空间

Ф360x550mm

涂层温度

800~1100℃

涂层速度

1~8μm/h

涂层物质

TiC、TiCN、TiN、AL2O3
单层或多层

操作方式

PLC自动控制

使用电量

35KW~50KW

附着力

100N以上

附属文件

使用指南；
涂层工艺指南；
安全技术指南；
标准涂层工艺表等

我公司开发的CVD设备和技术，是在深入了解国内外CVD技术的基础上，自主研发的CVD设备。其设计原则可归纳如下：

◎ 所设计的设备，适合于中小型企业；
◎ 自动化水平达到保障连续生产的基础上，添加了设备和产品保护功能；
◎ 装置、结构件和部件的可信赖性和经济性。

本公司生产的CVD涂层设备，主要以生产TiC、TiCN、TiN涂层为主，同时也可以进行AL2O3涂层的生产。
该设备可广泛应用于，模具、紧固件、机床刀片、小型工件的硬质合金涂层生产。

该设备设计时考虑了反应罐、加热炉、气体供给系统和废气净化系统的完整性、实用性和安全性。反应罐内部结构的设计及废气净化处理系统是设计中的关键所在。

本公司采用的是下进上出式气体供给方式，其优点如下：

◎ 反应罐内设有气体通道，可充分利用罐内的空间；
◎ 能够克服重力的影响，从而涂层厚度的均匀性；
◎ 作为常压法，能够保持反应罐内的气流速度为3cm/s的有利条件。

三、气体供给系统

一次混合气体的压力，由结合混合器背压操作的自动阀来调整，从而维持的压力。

四、加热炉

加热方式采用外罩加热方式，加热炉温度从上到下分5个控制区，分别由PID温度控制仪控制，温度数据由PLC主控系统来设定和控制。加热炉各部位温度的控制是能否获得涂层效果的关键。这也是本公司核心技术之一。

五、真空系统

由于是常压法，所以涂层过程中不需要真空。抽真空只用于生产前的空气置换。所用真空泵为小型旋转式真空泵。

六、自动控制系统（PLC）

PLC控制系统，由我公司自行开发设计，基材进入反应罐以后的涂层操作，全部由PLC来控制。如，涂层全过程的监测、涂层工艺的管理、警报管理、部分操作试验等功能之外，还具有以下特点；

◎ 可存储多8种常用的涂层工艺程序，可随时调用，还可随时修改；
◎ 具有可靠的保护功能：

— 警报功能。警报功能有，显示文字和铃声提醒；警报的同时，操作工序自动进入保护程序；经过处理后，可继续完成剩余的涂层程序。

— 程序中断功能。如果中途需要停止工程，可安全地中断程序。

— 停电处理功能。途层过程中，当发生短时间停电，恢复供电后，可通过保护程序，继续完成剩余的涂层程序。（停电期间，反应罐内仍然自动通入惰性气体进行着产品保护。）

七、主要工艺流程简述

◎ 经过超声波清洗后的基材，盛装于钼制托架内，装入反应罐；

◎ 通过PLC设定涂层程序；

◎ 程序开始运行。由抽真空开始，罐内注入惰性气体，所有工程按程序自动运行。

◎ 升温过程是在惰性气体保护下进行。该过程可通过，可通过升温优化模式程序注入氢气，进行优化。

◎ 升温程序结束后，运行涂层程序。通过混合处理的气体，进入反应罐内，加热温度，也随着涂层工艺的要求进行自动调节。

◎ 涂层过程中产生的废气，进入废气处理系统。通过燃烧器进行燃烧处理，再通过碱性溶液的喷淋系统，进行中和溶解处理，使排放气体达到标准。

◎ 涂层结束后，惰性气体进入反应罐内，置换出反应气体，关闭出气阀门，在正压条件下进行冷却。