用途：
高纯钛靶主要用于大规模集成电路制造，LCD用靶，装饰镀膜等。
技术参数：
纯度：4N-5N
尺寸：直径50～400mm，厚度3～28mm
可根据客户要求定制
联系我时，请说是在找找去看到的，谢谢！
| 品名 | 其他 | 牌号 | TA1 |
|---|---|---|---|
| 钛含量≥ |
用途：
高纯钛靶主要用于大规模集成电路制造，LCD用靶，装饰镀膜等。
技术参数：
纯度：4N-5N
尺寸：直径50～400mm，厚度3～28mm
可根据客户要求定制
